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  • 2021
    關(guān)于清潔度檢測(cè)儀你還了解什么?

    清潔度檢測(cè)儀是一款高精度的金屬表面潔凈度測(cè)試儀器,被廣泛的應(yīng)用于金屬表面檢測(cè)中,為清潔時(shí)間、工藝改進(jìn)提供可靠數(shù)據(jù)。應(yīng)用于在汽車行業(yè)清潔度檢測(cè)、液壓潤滑行業(yè)顆粒度檢測(cè)的產(chǎn)品,具有性強(qiáng),測(cè)定結(jié)果的*性高等優(yōu)勢(shì),自動(dòng)化高,工作流設(shè)計(jì)模式,操作簡(jiǎn)便...

  • 2021
    含乳飲料的穩(wěn)定性

    有許多方法可以確定乳液的平均液滴尺寸,但大多數(shù)方法無法確定少量會(huì)導(dǎo)致頸環(huán)的超大尺寸物質(zhì)。基于大小和計(jì)數(shù)單個(gè)粒子的方法特別適合這種類型的分析,在此過程中,即使是少量異常值也可以進(jìn)行大小和計(jì)數(shù)。通過原理為單顆粒光學(xué)傳感器技術(shù)(SPOS)的Acc...

  • 2021
    這還是你熟悉的粒徑在線檢測(cè)儀嗎?

    粒徑在線檢測(cè)儀是一種非接觸式多頻譜近紅外水分測(cè)量儀,采用新的多頻譜近紅外硬件技術(shù)和*的算法結(jié)合數(shù)據(jù)模型結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)在線含水率測(cè)量,內(nèi)置了多種研發(fā)的軟件算法,結(jié)合德國的制造工藝,從而形成了*的技術(shù)優(yōu)勢(shì),這款儀器采用當(dāng)今新的多頻譜硬件技術(shù)和*模糊數(shù)...

  • 2021
    CMP Slurry 的尾端分布檢測(cè)

    概述化學(xué)機(jī)械拋光/平面化(CMP)是微電子工業(yè)中廣泛應(yīng)用的一種結(jié)合化學(xué)和機(jī)械力對(duì)表面進(jìn)行拋光的工藝。漿料的粒度儀分布是控制平化成功與否的關(guān)鍵參數(shù)。一些大顆粒會(huì)劃傷晶圓或磁盤驅(qū)動(dòng)器的表面,降低產(chǎn)量和利潤。Accusizer粒度計(jì)數(shù)分析儀是能夠...

  • 2021
    紅、白細(xì)胞的Zeta電位檢測(cè)

    Zeta電位被用來測(cè)量膠體分散體的穩(wěn)定性。它的基礎(chǔ)是電勢(shì)與粒子表面的電荷成比例。Zeta電位越大,粒子間的斥力就越強(qiáng)。如此大的斥力使擴(kuò)散的粒子不會(huì)隨機(jī)碰撞在一起形成聚集體。zeta電勢(shì)的測(cè)量在其他方面也很有用。在本文中,zeta電位被用來測(cè)...

  • 2021
    使用AccuSizer 780對(duì)紅、白血細(xì)胞進(jìn)行粒徑檢測(cè)及顆粒計(jì)數(shù)

    傳統(tǒng)意義上,紅細(xì)胞和白細(xì)胞都是用電阻法計(jì)數(shù)的。這種方法測(cè)量的是當(dāng)分散在導(dǎo)電介質(zhì)中的粒子通過小孔時(shí),電阻的增加或相反,電導(dǎo)率的減少。這種反應(yīng)的大小與粒子的體積和大小有關(guān)。盡管這項(xiàng)技術(shù)多年來一直適用,但本文證明,使用SPOS(單粒子光學(xué)傳感)結(jié)...

  • 2021
    CMP漿體粒徑分析:SPOS與費(fèi)朗霍夫

    CMP漿體粒徑分析:SPOS與費(fèi)朗霍夫半導(dǎo)體行業(yè)正在朝著更小的線寬和更多的層的方向發(fā)展。邁向這種高密度芯片技術(shù)的重要的工藝考慮之一是對(duì)平面化步驟的更復(fù)雜的控制。拋光步驟受膠體分散金屬氧化物漿料(CMP,化學(xué)機(jī)械平面化的簡(jiǎn)稱)的影響,主要是二...

  • 2021
    是什么讓你對(duì)磨料漿檢測(cè)儀如此看好!

    磨料漿檢測(cè)儀應(yīng)用十分廣泛,主要應(yīng)用于石化工業(yè)、電力工業(yè)、航空造船業(yè)、造紙業(yè)、紡織業(yè)、冶金工業(yè)等。采用標(biāo)準(zhǔn)的凱氏定氮方法:濃硫酸消化、堿性環(huán)境蒸汽蒸餾、硼酸吸收、指示劑滴定終點(diǎn)顏色判定法;采用持續(xù)滴定方式,可無*滴定,無需來回抽吸試劑;終點(diǎn)可...

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