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清潔度檢測(cè)儀（或稱為清潔度測(cè)試儀、清潔度分析儀）是一種用于檢測(cè)工業(yè)制造過程中零件、設(shè)備、油品及其他材料表面清潔度的儀器。通過測(cè)量待測(cè)物體表面殘留的污染物，如顆粒、油脂、金屬切屑、微生物（如ATP含量）等，來(lái)判斷其清潔程度是否符合要求。它廣泛...

高壓微射流均質(zhì)機(jī)主要用于處理各種液體、半固體以及懸浮液，通過高壓和微射流技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)這些物質(zhì)的均勻混合、細(xì)化分散、均質(zhì)化以及乳化等效果。工作原理是利用高壓泵將物料送入微射流均質(zhì)腔中，在高速噴射和撞擊的作用下，物料受到強(qiáng)烈的剪切力、撞擊力和空穴...

高壓微射流均質(zhì)機(jī)是一種先進(jìn)的流體處理設(shè)備，基于動(dòng)態(tài)高壓微射流技術(shù)。其工作原理是通過增壓器使物料在高壓作用下以高速流經(jīng)微管通道，并進(jìn)入微米級(jí)固定均質(zhì)腔。物料流在此過程中受到高剪切力、高碰撞力、空穴效應(yīng)等，從而獲得理想的均質(zhì)結(jié)果。PSI研發(fā)的增...

摘要：化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是半導(dǎo)體制造中關(guān)鍵的平坦化工藝，而控制研磨液中的大顆粒計(jì)數(shù)（LPC）對(duì)確保晶圓表面質(zhì)量和提高產(chǎn)品良率至關(guān)重要。隨著工藝向更小納米級(jí)發(fā)展，對(duì)LPC的檢測(cè)精度要求更高。文章討論了LPC檢測(cè)的技術(shù)難點(diǎn)，包括高濃度樣品干...

過濾效率檢測(cè)儀是一種專門用于測(cè)量和評(píng)估過濾材料或過濾器對(duì)顆粒物、氣溶膠等污染物過濾效率的儀器。它廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、紡織科學(xué)技術(shù)、安全科學(xué)技術(shù)、空氣凈化、醫(yī)療、制藥、食品、電子、化工等多個(gè)領(lǐng)域。過濾效率檢測(cè)儀通過模擬實(shí)際工作環(huán)境，向測(cè)試系統(tǒng)...

過濾效率檢測(cè)儀是一種專門用于測(cè)量和評(píng)估過濾材料或過濾器對(duì)顆粒物、氣溶膠等污染物過濾效率的儀器。它廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、紡織科學(xué)技術(shù)、安全科學(xué)技術(shù)、空氣凈化、醫(yī)療、制藥、食品、電子、化工等多個(gè)領(lǐng)域。過濾效率檢測(cè)儀通過模擬實(shí)際工作環(huán)境，向測(cè)試系統(tǒng)...

在線激光粒度儀是一種用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和分析顆粒粒度分布的儀器，常用于工業(yè)過程控制中。這類儀器可以提供即時(shí)的數(shù)據(jù)反饋，幫助優(yōu)化生產(chǎn)過程，確保產(chǎn)品質(zhì)量，并滿足相關(guān)法規(guī)的要求。工作原理基于光的散射（衍射）現(xiàn)象。當(dāng)激光束穿過含有顆粒的介質(zhì)時(shí)，顆粒會(huì)散射...

全文共3140字，閱讀大約需要12分鐘1本文的應(yīng)用背景盡管銅化學(xué)機(jī)械平坦化(CMP)已成為半導(dǎo)體制造業(yè)實(shí)現(xiàn)集成電路局部和全局平坦化的關(guān)鍵技術(shù)，但在阻擋層CMP過程中仍有一些問題需要克服，如有機(jī)殘留物、表面顆粒、蝶形缺陷、侵蝕和劃痕，其中，劃...