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  • 2023
    MLCC陶瓷漿料均一性的一體化解決方案(短篇)

    MLCC陶瓷漿料均一性的一體化解決方案均一性與穩(wěn)定性控制MLCC全稱為Multi-layerCeramicCapacitors,即片式多層陶瓷電容器,是全球用量最大的片式元件之一,因其具備體積小、容量大等特征,被廣泛應用于消費類電子、家用電...

  • 2023
    CMP Slurry均一性的一體化解決方案(短篇)

    CMPSlurry均一性的一體化解決方案均一性與穩(wěn)定性控制化學機械拋光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)技術(shù)被譽為是當今時代能實現(xiàn)集成電路(IC)制造中晶圓表面平坦化的重要技術(shù),CMP的效果直接影響到晶圓、芯...

  • 2023
    粒度儀的技術(shù)優(yōu)勢

    粒度儀可分為納米粒度儀,激光粒度儀,單顆粒光阻法粒度儀和圖像粒度儀等。粒度儀是用物理的方法測試固體顆粒的大小和分布的一種儀器。根據(jù)測試原理的不同分為沉降式粒度儀、沉降天平、激光粒度儀、光學顆粒計數(shù)器、電阻式顆粒計數(shù)器、顆粒圖像分析儀等。廣泛...

  • 2023
    【ALP-TS-23004A】乳佐制備及表征一體化解決方案

    均一性與穩(wěn)定性控制佐劑(Adjuvant)又稱免疫調(diào)節(jié)劑或免疫增強劑(Immunepotentiator),是作為疫苗的一種添加劑,當它先于抗原或與抗原混合注入機體后,能夠增強機體對抗原的免疫應答或者改變免疫反應的類型,屬于非特異性的免疫增...

  • 2023
    CMP Slurry均一性的一體化解決方案

    摘要:化學機械拋光(CMP)是一種廣泛應用于半導體晶圓加工,通過結(jié)合化學力和機械力對晶圓表面進行拋光、平坦化。CMPSlurry(拋光液/研磨液)是用于CMP工藝中的重要原料,通常由納米及亞微米級別原料組成。而Slurry中的大顆粒的存在易...

  • 2023
    【AM-AN-22027A】如何把固體含量轉(zhuǎn)換成顆粒濃度

    如何把固體含量轉(zhuǎn)換成顆粒濃度我們知道標準粒子(顆粒類標準物質(zhì))中的粒度標準粒子,其證書上只有固液質(zhì)量占比的參數(shù),也就是固含量。但是有時候我們想知道不同粒徑標粒的每毫升的顆粒濃度,除了使用顆粒計數(shù)器來檢測之外,我們還可以通過固含量與顆粒濃度的...

  • 2023
    【AM-AN-22026A】標準粒子在過濾系統(tǒng)中的應用

    標準粒子在過濾系統(tǒng)中的應用關(guān)鍵詞:標準粒子;過濾器;顆粒計數(shù)器靜脈輸液給藥是一種藥物不經(jīng)任何生物屏障直接進入人體血液循環(huán)系統(tǒng)的給藥方式,在我國應用普遍。在輸液過程中引入的不溶性微粒可成為誘發(fā)心腦血管病、肺栓塞的危害因素,所以微粒污染問題已受...

  • 2023
    【AM-AN-22025A】標準粒子在光散射研究中的應用

    標準粒子在光散射研究中的應用關(guān)鍵詞:標準粒子;米氏散射光的散射(scatteringoflight)是指光通過不均勻介質(zhì)時一部分光偏離原方向傳播的現(xiàn)象。偏離原方向的光稱為散射光。散射光頻率不發(fā)生改變的有瑞利散射、米氏散射和大粒子散射;頻率發(fā)...

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